硫酸钡*研磨分散机

硫酸钡*研磨分散机
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品牌:CIK
单价:面议
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分类:行业专用机械及设备
站内更新:2015-12-25 00:00
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详细说明

硫酸钡*研磨分散机 硫酸钡胶体磨 硫酸钡研磨机 硫酸钡溶液研磨分散机

   硫酸钡,适用于上、下消化道造影。无臭、无味粉末,密度4.25-4.5,分解温度>1600℃。溶于热浓硫酸,几乎不溶于水、稀酸、醇。水悬浮溶液对石蕊试纸呈中性。

   对于硫酸钡溶液的生产,目前许多厂家采用国产胶体磨生产,由于国产胶体磨本身转速较低为2930转,生产出来的硫酸钡溶液粒径一般在20μm左右,而且生产效果很低,需要研磨5-6小时。而使用CIK研磨分散机进行处理,研磨两遍,粒径可以细化到5μm,效果好,*。       

   NKD2000系列研磨分散设备是CIK(上海)公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品,该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将三级高剪切均质乳化机进行改装,我们将三级变跟为一级,然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头,使物料可以先经过胶体磨细化物料,然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。胶体磨可根据物料要求进行更换(我们提供了2P2G4M6F8SF等五种乳化头供客户选择)


 硫酸钡*研磨分散机的特点:

1   线速度很高,剪切间隙非常小,当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨

2   定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。

3   定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离

4  在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。

5   高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。
 
NKD2000系列硫酸钡*研磨分散机设备选型表

型号

流量

L/H

转速

rpm

线速度

m/s

功率

kw

入/出口连接

DN

NKD2000/4

300

9000

23

2.2

DN25/DN15

NKD2000/5

1000

6000

23

7.5

DN40/DN32

NKD2000/10

2000

4200

23

22

DN80/DN65

NKD2000/20

5000

2850

23

37

DN80/DN65

NKD2000/30

8000

1420

23

55

DN150/DN125

NKD2000/50

15000

1100

23

110

DN200/DN150


主营:;欢迎与我们联系!
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