真空管式气氛炉温场效果

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 真空管式气氛炉适用于电子陶瓷与高温结构陶瓷的烧结、玻璃的精密退火与微晶化、晶体的精密退火、陶瓷釉料制备、粉末冶金、纳米材料的烧结、金属零件淬火及一切需快速升温工艺要求的热处理，应用于电子元器件、新型材料及粉体材料的真空气氛处理，材料在惰性气氛环境下进行烧结。
    真空管式气氛炉正负压力：抽真空至 10Pa(机械泵)；大工作压力低于0. 1MPa（使用推荐工作压力≤0.04MPa）
    真空管式气氛炉温场效果：温度波动度：±1.0℃，温场均匀性±3.0℃
    可充气体：氢气，氮气，氧气和氩气及其它惰性气体
    壳体结构：双层炉壳，炉体表面温度低，四周表面温度：≤ 35℃，内箱采用3mm spcc无缝焊接
    真空管式气氛炉安全保护系统：具备完善的保护功能，有超温、短偶、过流、短路、传动动作连锁等功能，操作安全可靠。
    真空管式气氛炉操作系统：LED数显仪表，数字显示电流表、电压表，指针压力表           
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